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知识产权保护与管理实务

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关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。

  • A、该布图设计必须投入商业实施
  • B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
  • C、布图设计应具有独创性
  • D、受保护的布图设计必须办理登记手续
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