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口腔医学技术(士)

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患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）

  • A、取下腭杆
  • B、腭杆组织面缓冲
  • C、腭杆组织面加自凝树脂重衬
  • D、不做任何处理
  • E、取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆
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