多做题,通过考试没问题!

集成电路制造工艺员

题库首页>通信电子计算机技能考试>集成电路制造工艺员

有关光刻胶的显影下列说法错误的是()。

  • A、负胶受显影液的影响比较小
  • B、正胶受显影液的影响比较小
  • C、正胶的曝光区将会膨胀变形
  • D、使用负胶可以得到更高的分辨率
  • E、负胶的曝光区将会膨胀变形
查看答案

微信扫一扫手机做题