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化学制药工艺考试

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容易水解的，必须控制水分、所用设备必须干燥的原料是（）

  • A、哌嗪
  • B、溴乙烷
  • C、乙氧基亚甲基丙二酸二乙酯
  • D、诺氟沙星
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