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集成电路制造工艺员

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解决氧化层中的钠离子沾污的方法有（）。

  • A、加强工艺操作
  • B、加强人体和环境卫生
  • C、使用高纯化学试剂、高纯水和超净设备
  • D、采用HCl氧化工艺
  • E、硅片清洗后，要充分烘干，表面无水迹
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