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集成电路制造工艺员

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对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。

  • A、入射离子的能量
  • B、入射离子的质量
  • C、入射离子的原子序数
  • D、靶原子的质量、原子序数、原子密度
  • E、注入离子的总剂量
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