多做题,通过考试没问题!
集成电路制造工艺员
题库首页
>
通信电子计算机技能考试
>
集成电路制造工艺员
用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料,是形成电极的()。
A、重要步骤
B、次要步骤
C、首要步骤
D、不一定
查看答案
微信扫一扫手机做题
最新试题
·
在确定扩散率的测结深实验中,结深的测量是
·
说明功能检测工装的制作原理?
·
在空位扩散中,如果迁移到空位的原子是基质
·
在IC芯片生长中浅沟槽隔离技术STI逐渐
·
在深紫外曝光中,需要使用CA光刻胶,CA
·
如何正确选用机电元件?
·
下列扩散杂质源中,()不仅是硅常用的施主
·
如何合理选用电烙铁?
·
目前,最广泛使用的退火方式是()。
·
在半导体制造中,熔断丝可以应用在()。
热门试题
·
什么叫TFT技术?TFT技术的主要特点是
·
电容器有哪些技术参数?哪种电容器的稳定性
·
由于水中阴阳离子都有导电能力,所以水的(
·
二氧化硅薄膜厚度的测量方法有()。
·
TFTLCD显示器的主要特点有哪些?
·
危害半导体工艺的典型金属杂质是()。
·
显像管由哪几部分组成?显像管是如何分类的
·
如何选用半导体分立器件?
·
晶片经过显影后进行坚膜,坚膜的主要作用有
·
电子束蒸发的设备中产生电子束的装置称为(