光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。

• A、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶
• B、涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶
• C、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶
• D、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶