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集成电路制造工艺员
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集成电路制造工艺员
二氧化硅层中的钠离子可能来源于（）。
A、玻璃器皿
B、高温器材
C、人体沾污
D、化学试剂
E、去离子水
正确答案:
A,B,C,D,E
答案解析:
有
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