多做题，通过考试没问题！

集成电路制造工艺员

题库首页>通信电子计算机技能考试>集成电路制造工艺员

干氧氧化法有一些优点，但同时它的缺点有（）。

  • A、生长出的二氧化硅中引入很多可动离子
  • B、氧化的速度慢
  • C、生长的二氧化硅缺陷多
  • D、生长的二氧化硅薄膜钝化效果差
查看答案

微信扫一扫手机做题

最新试题
热门试题