多做题，通过考试没问题！

集成电路制造工艺员

题库首页>通信电子计算机技能考试>集成电路制造工艺员

多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对（）的高选择性。超薄的栅氧化层使得在刻蚀多晶硅电极时对栅氧化层的刻蚀要尽可能的小。

  • A、二氧化硅
  • B、氮化硅
  • C、单晶硅
  • D、多晶硅
查看答案

微信扫一扫手机做题

最新试题
热门试题