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集成电路制造工艺员
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集成电路制造工艺员
He，OH，Na等元素在900℃下，在二氧化硅中的扩散率大于10－13cm
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/s，这些元素称为（）。
A、活跃杂质
B、快速扩散杂质
C、有害杂质
D、扩散杂质
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